自90年代以来，全球电子行业蓬勃发展，引起了世界各国政府的高度重视。中国的电子工业历经多年的改革开放，逐渐成为“世界电子产品制造业的加工厂”。目前大力发展晶圆厂，在晶棒、晶圆的制造过程中，切割、研磨、划片、减薄、化学研磨平坦化(CMP)等工艺后的清洗过程中，均会产生研磨废水。研磨废水中含有少量的研磨膏、被研磨下来的微小颗粒以及清洗剂，但其中的水质比较好，电导率和TOC(Total Organic Carbon，总有机碳)含量都比较低，具有回收利用的价值。
研磨废水回收的难点在于废水中的颗粒物非常微小，采用传统的介质过滤没有办法去除。现有技术中一般采用混凝沉淀进行预处理，再运用高分子有机物制成的超滤技术，利用有机超滤膜的孔径小的特点，对研磨废水中的微小颗粒进行截留，合格的产水进行回收。但是，由于研磨废水中的颗粒物比较锋利，且有机超滤存在机械强度不足，容易断丝且过滤效果较差的情况。另外，有机超滤对进水中SS(Suspended Solids，悬浮物)和TOC的容忍度有限，对预处理的要求严格，化学稳定性有限，运行故障后，膜的性能恢复性不理想等缺陷，因此有机超滤运用起来故障率高，更换频繁。
在半导体、微电子和太阳能电池/电池板的工业生产过程中，会使用大量的工艺水或超纯水进行冲洗。这些制程中消耗了昂贵的水资源，并且其废水中的污染物很难通过传统工艺除去。这些污染物有切割划片切割划片和l背面研磨产生的微粒、溶解态金属、氟离子和其他残余物。
纳米平面膜过滤系统与化学沉淀反应相结合，是一种针对此类废水处理的极为高效的解决方案。纳米平面膜组件使用寿命长、化学耐受性和耐摩擦性能都，是一种理想的用于晶圆研磨废水过滤的膜产品。经由采用了安高所设计制造的系统处理之后的出水可以循环并重新利用。在某些情况下，那些被过滤截留的固体成分也可以重新再利用。
